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淺析超純水在光學領域的應用

更新時間:2019-11-12   點擊次數:2866次
     超純水的水質純度已經成為影響光學器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一,因此光學領域對水質的要求也越來越高。同時,超純水設備的性能好壞,直接影響到超純水的質量。
 
·       在生產中,超純水主要用作純水清洗和純水配液,不同的工藝生產中純水的用途及對水質的要求也不同。清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會漏電。在電子管生產中,電子管陰極涂甫碳酸鹽,如其中混入雜質,就會影響電子的發(fā)射,進而影響電子管的放大性能及壽命。
 
·       因此其配液要使用純水,在顯象管和陰極射線管生產中,其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質,是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,其配制需用純水,如純水中含銅在8ppb以上,就會引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍;含奇有機物膠體、微粒、細菌等,就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力,并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。
 
·       在晶體管、集成電路生產中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結耐壓降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化,V族元素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化,水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的局部區(qū)域變化為N型硅而導致器件性能變壞水中的顆粒(包括細菌)如吸咐在硅片表面,就會引起電路短路或特性變差。
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